一種等離子體刻蝕機的腔體

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121966773.7 申請日 -
公開（公告）號 CN216054569U 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN216054569U 申請公布日 2022-03-15
分類號 H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳福仁;霍曜;李彬彬;李瑞評 申請（專利權(quán)）人 福建晶安光電有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 362411福建省泉州市安溪縣湖頭鎮(zhèn)橫山村光電產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種等離子體刻蝕機的腔體，包括分子泵、進氣口、抽氣口、勻氣盤、載盤，所述進氣口位于腔體頂部，所述抽氣口位于腔體側(cè)壁處，所述分子泵位于抽氣口處，所述勻氣盤上開有多個通氣孔，所述通氣孔為內(nèi)外兩圈呈環(huán)形分布，所述通氣孔的開口位置、孔徑大小、開口方向、開口角度或間距可調(diào)整，以使通過所述進氣口導(dǎo)入所述腔體的反應(yīng)氣體均勻分流后導(dǎo)出腔體，從而達到提高整盤晶片刻蝕的速率，提高等離子體刻蝕均勻性的效果。