一種具有浮島結(jié)構(gòu)的溝槽型垂直氮化鎵功率器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911038543.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112750890A | 公開(公告)日 | 2021-05-04 |
申請公布號 | CN112750890A | 申請公布日 | 2021-05-04 |
分類號 | H01L29/06;H01L29/20;H01L29/78 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王中健;肖兵;梁歡;黃肖艷 | 申請(專利權(quán))人 | 季優(yōu)科技(珠海橫琴)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海宏京知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 馮華 |
地址 | 201899 上海市嘉定區(qū)菊園新區(qū)環(huán)城路2222號1幢J246室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及寬禁帶功率電子器件技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種具有浮島結(jié)構(gòu)的溝槽型垂直氮化鎵功率器件,包括Body電極和外殼體,所述外殼體的頂端設(shè)置有溝槽,所述溝槽的內(nèi)側(cè)壁固定連接?xùn)沤饘伲鰱沤饘俚膬?nèi)側(cè)設(shè)置有柵介質(zhì),所述外殼體的內(nèi)腔自下而上晶片結(jié)構(gòu)依次設(shè)置N+襯底、N型漂移區(qū)、P型層和N+摻雜層,所述P型層與N+摻雜層對稱設(shè)置有兩組,所述N型漂移區(qū)的內(nèi)側(cè)對稱設(shè)置P型浮島,所述外殼體的頂側(cè)兩端對稱固定連接源漏電極,本發(fā)明實(shí)現(xiàn)在N型漂移區(qū)引入兩個(gè)對稱P型浮島,有利于避免溝槽底部拐角處柵介質(zhì)處的電場聚集效應(yīng),電場強(qiáng)度因P型浮島的存在而減小,達(dá)到了抑制柵介質(zhì)擊穿引起的器件擊穿現(xiàn)象,有利于提高擊穿電壓。 |
