垂直腔面激光發(fā)射裝置及其制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010739830.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111884047A 公開（公告）日 2020-11-03
申請公布號 CN111884047A 申請公布日 2020-11-03
分類號 H01S5/183(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張義榮 申請（專利權(quán)）人 傳周半導(dǎo)體科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京久維律師事務(wù)所 代理人 傳周半導(dǎo)體科技（上海）有限公司
地址 200003上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)海洋一路333號1號樓、2號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種垂直腔面激光發(fā)射裝置，包括：一陶瓷基板，發(fā)射第一波長的第一垂直腔面激光發(fā)射二極管，設(shè)置在所述基板上；發(fā)射第二波長的第二垂直腔面激光發(fā)射二極管，設(shè)置在所述基板上；以及驅(qū)動控制電路，設(shè)置在所述基板上，用于驅(qū)動所述第一垂直腔面發(fā)射激光二極管，并在所述第一垂直腔面發(fā)光二極管失效時，啟動第二垂直腔面發(fā)光二極管。本發(fā)明提供雙波段垂直腔面激光發(fā)射裝置，可應(yīng)用于不同的工作環(huán)境中。本發(fā)明還提供所述垂直腔面激光發(fā)射裝置的制作方法。??