掛載裝置和磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920631449.6 申請日 -
公開（公告）號 CN210001922U 公開（公告）日 2020-01-31
申請公布號 CN210001922U 申請公布日 2020-01-31
分類號 C23C14/35（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳富松; 方政 申請（專利權(quán)）人 東旭（昆山）顯示材料有限公司
代理機構(gòu) 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 東旭（昆山）顯示材料有限公司; 東旭光電科技股份有限公司
地址 215300 江蘇省蘇州市昆山經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)蓬溪北路500號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及掛載裝置領(lǐng)域，公開了一種掛載裝置和磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，所述掛載裝置包括上導軌(1)、下導軌(2)以及安裝在所述上導軌(1)和所述下導軌(2)之間的安裝架(3)，其中，所述安裝架(3)的上端通過上磁懸浮結(jié)構(gòu)安裝于所述上導軌(1)，所述安裝架(3)的下端通過下磁懸浮結(jié)構(gòu)安裝于所述下導軌(2)。上述掛載裝置利用磁懸浮原理使安裝架不與上導軌和下導軌接觸，使得安裝架在移動過程中始終懸浮在導軌上，移動過程平穩(wěn)，避免安裝架振動，從而避免安裝架中所掛載的工件(例如，玻璃基板等)移動、形變或者破裂，提高成品的質(zhì)量。