一種曝光機基板載臺及曝光機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920667064.5 申請日 -
公開（公告）號 CN209606774U 公開（公告）日 2019-11-08
申請公布號 CN209606774U 申請公布日 2019-11-08
分類號 G03F7/20（2006.01）I; G02F1/13（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 汪杰 申請（專利權(quán)）人 東旭（昆山）顯示材料有限公司
代理機構(gòu) 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 東旭（昆山）顯示材料有限公司; 東旭光電科技股份有限公司
地址 215333 江蘇省昆山市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)蓬溪北路500號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種曝光機基板載臺及曝光機，包括具有用于承托基板的上表面的載臺本體；多個且設(shè)置在載臺本體的上表面的支撐柱；鋪設(shè)在載臺本體的上表面的氣墊，氣墊上設(shè)置有供支撐柱穿過的柱孔；氣墊充氣后的上表面與支撐柱的上端位于同一水平面。本實用新型在進行曝光作業(yè)時，使氣墊處于充氣狀態(tài)，此時，氣墊的上表面與支撐柱的上端面形成一個支撐基板的平面，基板置于該平面上進行曝光時，由于氣墊和支撐柱緊貼基板的下表面，基板下方無空隙，曝光過程中，支撐柱與其他位置的溫度和能量差異幾乎消失，從而有效避免由于溫度差異而產(chǎn)生的stage mura問題，有效增加產(chǎn)品良率，特別時厚度較薄的玻璃基板，改善效果最佳。