一種提高電子材料印刷平整度的后處理方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110436280.7 申請日 -
公開（公告）號 CN102529479B 公開（公告）日 2014-10-08
申請公布號 CN102529479B 申請公布日 2014-10-08
分類號 B05D3/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B41M7/00(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 林劍;陳征;崔錚 申請（專利權(quán)）人 蘇州納方科技發(fā)展有限公司
代理機構(gòu) 北京華夏博通專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)獨墅湖高教區(qū)若水路398號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種對噴墨打印在襯底上的電子材料液膜進行低溫干燥處理，減少或去除液膜中的溶劑部分，其中低溫干燥處理的溫度范圍為零下5℃以下，泛指通過降溫措施抑制油墨流動性的去除溶劑部分工藝，處理期間所述溶劑部分的為固態(tài)或液態(tài)。并且該低溫干燥處理僅去除液膜中的部分溶劑，且去除的部分溶劑比例滿足標準成膜質(zhì)量。實施本發(fā)明后處理工藝的效果顯著，簡言之即為通過低溫干燥處理，可在現(xiàn)有的電子油墨和打印工藝的基礎(chǔ)上有效消除或減少噴墨打印所制備電子薄膜中的凹凸不平現(xiàn)象，有利于印刷電子產(chǎn)品質(zhì)量的提高。?