一種提高磁強計分辨率指標的系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201821286111.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208421201U | 公開(公告)日 | 2019-01-22 |
申請公布號 | CN208421201U | 申請公布日 | 2019-01-22 |
分類號 | G01R33/02 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 田蕊;陳德祥;馮強濤;劉艷龍 | 申請(專利權)人 | 北京鵬宇思??萍加邢薰?/a> |
代理機構 | 北京市盛峰律師事務所 | 代理人 | 北京鵬宇思??萍加邢薰?/td> |
地址 | 100085 北京市海淀區(qū)安寧莊路26號樓4層401 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種提高磁強計分辨率指標的系統(tǒng),涉及磁場的精準測量技術領域。包括:一階無差系統(tǒng)、一階映射系統(tǒng)和二階映射系統(tǒng),所述一階映射系統(tǒng)和二階映射系統(tǒng)為所述一階無差系統(tǒng)的平行反饋系統(tǒng),所述一階映射系統(tǒng)通過反饋抵消絕大部分測量磁場,所述二階映射系統(tǒng)利用磁強計模擬輸出電壓作為反饋源,通過電阻轉換為電流直接反饋給磁強計探頭。該系統(tǒng)中,使用二階映射將有限的模擬電壓范圍對應小量程磁場值,分辨率可以比現(xiàn)有技術方案提高了兩個數(shù)量級;另外,由于一階映射為粗映射,一方面對數(shù)/模模塊和模/數(shù)模塊精度依賴大大降低,另一方面減少了元器件成本。 |
