光學(xué)濾波器、制造方法及環(huán)境光傳感器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111131418.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113865701A 公開（公告）日 2021-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN113865701A 申請(qǐng)公布日 2021-12-31
分類號(hào) G01J1/04（2006.01）I;G02B5/28（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 於廣軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海申矽凌微電子科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海段和段律師事務(wù)所 代理人 黃磊;郭國中
地址 201108上海市閔行區(qū)虹梅南路2588號(hào)1幢A320室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光學(xué)濾波器、制造方法及環(huán)境光傳感器，包括：襯底、光敏元器件、第一介質(zhì)層、第一反射鏡層、第一干涉層、第二反射鏡層以及第二介質(zhì)層；所述光敏元器件位于所述襯底內(nèi)，所述第一介質(zhì)層的下表面連接所述襯底和所述光敏元器件的上表面，所述第一反射鏡層的下表面連接所述第一介質(zhì)層的上表面，所述第一干涉層的下表面連接所述第一反射鏡層的上表面，所述第二反射鏡層的下表面連接所述第一干涉層的上表面，所述第二介質(zhì)層的下表面連接所述第二反射鏡層的上表面。本發(fā)明提出了一種兼容CMOS工藝的反射鏡方案，在不降低濾波性能的基礎(chǔ)上，可以降低制造成本，最大程度降低加工過程中工廠切換帶來的麻煩。