光學(xué)濾波器、制造方法及環(huán)境光傳感器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111131418.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113865701A | 公開(公告)日 | 2021-12-31 |
申請公布號 | CN113865701A | 申請公布日 | 2021-12-31 |
分類號 | G01J1/04(2006.01)I;G02B5/28(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 於廣軍 | 申請(專利權(quán))人 | 上海申矽凌微電子科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海段和段律師事務(wù)所 | 代理人 | 黃磊;郭國中 |
地址 | 201108上海市閔行區(qū)虹梅南路2588號1幢A320室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種光學(xué)濾波器、制造方法及環(huán)境光傳感器,包括:襯底、光敏元器件、第一介質(zhì)層、第一反射鏡層、第一干涉層、第二反射鏡層以及第二介質(zhì)層;所述光敏元器件位于所述襯底內(nèi),所述第一介質(zhì)層的下表面連接所述襯底和所述光敏元器件的上表面,所述第一反射鏡層的下表面連接所述第一介質(zhì)層的上表面,所述第一干涉層的下表面連接所述第一反射鏡層的上表面,所述第二反射鏡層的下表面連接所述第一干涉層的上表面,所述第二介質(zhì)層的下表面連接所述第二反射鏡層的上表面。本發(fā)明提出了一種兼容CMOS工藝的反射鏡方案,在不降低濾波性能的基礎(chǔ)上,可以降低制造成本,最大程度降低加工過程中工廠切換帶來的麻煩。 |
