一種半導(dǎo)體石英部件清洗設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111071443.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113522860B 公開（公告）日 2021-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN113522860B 申請(qǐng)公布日 2021-12-07
分類號(hào) B08B3/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 王衛(wèi)良;李士昌;劉超平;林保璋;姜永峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 盛吉盛精密制造（紹興）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 315100浙江省寧波市鄞州區(qū)云龍鎮(zhèn)石橋村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工設(shè)備，公開了一種半導(dǎo)體石英部件清洗設(shè)備，包括機(jī)架、轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于機(jī)架上且中心帶有升降口的擺放臺(tái)、設(shè)置于機(jī)架上且位于擺放臺(tái)一側(cè)的外管壁清洗裝置以及升降設(shè)置于機(jī)架內(nèi)且位于升降口下方的內(nèi)管壁清洗裝置，所述內(nèi)管壁清洗裝置包括升降臺(tái)、安裝于升降臺(tái)上的頂噴頭和側(cè)噴頭，所述頂噴頭的出水方向朝向機(jī)架上方，所述側(cè)噴頭的出水方向朝向機(jī)架側(cè)方，且所述側(cè)噴頭分布于頂噴頭的兩側(cè)；本發(fā)明頂噴出水的沖洗方式能夠讓將石英部件上殘留的臟污隨水流被帶走，從而大大提高石英部件的清洗效果，減少水漬的產(chǎn)生。