一種鍍膜機(jī)電子槍防護(hù)罩
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020707521.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211972431U | 公開（公告）日 | 2020-11-20 |
| 申請公布號 | CN211972431U | 申請公布日 | 2020-11-20 |
| 分類號 | C23C14/30(2006.01)I;G02B1/10(2015.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 宋濤;王強(qiáng);陸春媚 | 申請（專利權(quán)）人 | 湖北東田微科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 重慶中之信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 湖北東田微科技股份有限公司 |
| 地址 | 444100湖北省宜昌市當(dāng)陽市玉泉辦事處長坂路南段188號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種鍍膜機(jī)電子槍防護(hù)罩，其包括罩體，以及對罩體進(jìn)行支撐的若干支撐桿，罩體內(nèi)設(shè)置有分別與每一支撐桿連接的若干調(diào)節(jié)組件以對罩體高度進(jìn)行調(diào)整，罩體上端面上開設(shè)有兩個對稱設(shè)置的圓孔，兩圓孔之間的罩體上設(shè)置有半圓形缺口，罩體側(cè)壁上還開設(shè)有分別位于缺口兩側(cè)的兩個方孔。本實(shí)用新型解決了一部分膜料可能會噴灑到濾光片范圍之外，降低濾光片的鍍膜質(zhì)量的問題。?? |
