探測(cè)反射光變化的裝置、方法及膜厚測(cè)量裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110241306.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113048895A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-29 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113048895A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-29 |
| 分類(lèi)號(hào) | G01B11/06 | 分類(lèi) | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 王奇;李仲禹;王政 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 武漢東喻專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張英 |
| 地址 | 201702 上海市青浦區(qū)徐涇鎮(zhèn)雙浜路269、299號(hào)1幢1、3層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提出了一種探測(cè)反射光變化的裝置、方法及膜厚測(cè)量裝置，該裝置包括至少一探測(cè)光源，用于產(chǎn)生入射光束；至少一光瞳分割系統(tǒng)，用于將入射光束場(chǎng)強(qiáng)進(jìn)行分割使其在光瞳分割系統(tǒng)第一表面形成為第一場(chǎng)強(qiáng)分布；將具有第三場(chǎng)強(qiáng)分布反射光束使其在光瞳分割系統(tǒng)第二表面形成為第四場(chǎng)強(qiáng)分布；至少一光路準(zhǔn)直系統(tǒng)，用于將入射光束聚焦至待測(cè)體表面形成為第二場(chǎng)強(qiáng)分布；接收反射光束于光瞳分割器的第一表面形成為第三場(chǎng)強(qiáng)分布。按照本發(fā)明的裝置及方法，在入射光路上設(shè)置瞳面分割，進(jìn)一步對(duì)入射光和反射光使用同一光路器件，通過(guò)調(diào)整入射探測(cè)光光束的場(chǎng)強(qiáng)分布或透鏡組視場(chǎng)范圍，同樣可以調(diào)制目標(biāo)出射探測(cè)光光斑的場(chǎng)強(qiáng)分布，提高探測(cè)器信噪比。 |
