在可控氣氛環(huán)境中用微波輻照制備改性石墨烯材料的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110039850.9 申請日 -
公開（公告）號 CN102180462B 公開（公告）日 2013-01-02
申請公布號 CN102180462B 申請公布日 2013-01-02
分類號 C01B31/04(2006.01)I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 瞿研 申請（專利權(quán)）人 無錫第六元素高科技發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所 代理人 無錫第六元素高科技發(fā)展有限公司;常州第六元素材料科技股份有限公司
地址 214174 江蘇省無錫市惠山區(qū)惠山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)工業(yè)園花園街5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種在可控氣氛環(huán)境中用微波輻照制備改性石墨烯材料的方法，包括以下制備步驟：取氧化石墨置于微波室的真空腔內(nèi)，關(guān)閉真空腔頂蓋；將氣體氮?dú)庾⑷氲秸婵涨恢?，抽取真空腔的氣壓；再將氣體氨氣或氟氣注入到真空腔中，啟動(dòng)微波輻照，直到氧化石墨爆炸解離；關(guān)閉微波輻照，將真空腔中的氣體抽走；將氣體氮?dú)庾⑷氲秸婵涨恢?，直到充滿一個(gè)大氣壓狀態(tài)；打開真空腔頂蓋，收集改性的還原氧化石墨粉末。本發(fā)明在微波腔內(nèi)設(shè)置真空室，有效隔絕氧氣和石墨烯的接觸，避免高溫還原過程中石墨烯的燃燒，從而提高還原產(chǎn)率；且具有設(shè)備簡單、節(jié)能、高產(chǎn)率、容易實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)等特點(diǎn)。