一種肖特基勢壘二極管及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710272727.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107359208A | 公開(公告)日 | 2017-11-17 |
申請公布號 | CN107359208A | 申請公布日 | 2017-11-17 |
分類號 | H01L29/872(2006.01)I;H01L29/41(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉偉 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州立昂微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 尉偉敏 |
地址 | 310018 浙江省杭州市下沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)20號大街199號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種肖特基勢壘二極管,包括第二導(dǎo)電類型摻雜單晶硅襯底,所述襯底上部設(shè)有第一導(dǎo)電類型摻雜區(qū),所述第一導(dǎo)電類型摻雜區(qū)橫向間隔設(shè)有多個第一溝槽,兩相鄰的第一溝槽之間形成有遷移區(qū),所述遷移區(qū)和第一溝槽的導(dǎo)電層頂部設(shè)置有肖特基勢壘金屬層,肖特基勢壘金屬層上設(shè)置有陽極金屬層;所述第一導(dǎo)電類型摻雜區(qū)橫向還至少設(shè)置有一個第二溝槽,所述第二溝槽與遷移區(qū)之間間隔有第一溝槽,所述第二溝槽的導(dǎo)電層頂部設(shè)置有陰極金屬層,所述陰極金屬層與陽極金屬層相互不連通。另外,本發(fā)明還公開了一種肖特基勢壘二極管制造方法。采用本發(fā)明,提高了產(chǎn)品的性能和可靠性。 |
