一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610060658.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105576045B | 公開(公告)日 | 2018-04-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105576045B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-04-17 |
分類號(hào) | H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州立昂微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 尉偉敏 |
地址 | 310018 浙江省杭州市下沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)20號(hào)大街199號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管,包括有源區(qū)和截止區(qū),有源區(qū)自上而下依次由陽極金屬層、肖特基勢(shì)壘金屬層、第一導(dǎo)電類型輕摻雜的N型外延層、第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s的單晶硅襯底和陰極金屬層構(gòu)成,N型外延層上部設(shè)有若干溝槽,溝槽橫向間隔設(shè)置,肖特基勢(shì)壘金屬層與相鄰溝槽之間的N型外延層的頂面形成肖特基勢(shì)壘接觸,溝槽內(nèi)填充有導(dǎo)電多晶硅,導(dǎo)電多晶硅與溝槽之間設(shè)有隔離層,隔離層的內(nèi)部設(shè)有真空氣隙,溝槽在有源區(qū)和截止區(qū)相互連通。該溝槽肖特基勢(shì)壘二極管具有反向阻斷電壓高、反向偏壓低忽然反向漏電低等優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明還公開了一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管的制造方法,該方法具有制造方法步驟少,制造成本等優(yōu)點(diǎn)。 |
