一種半導(dǎo)體元件蝕刻液及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510876027.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN105513955B 公開(kāi)(公告)日 2018-01-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN105513955B 申請(qǐng)公布日 2018-01-12
分類(lèi)號(hào) H01L21/306 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 鄭春秋 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 盛凡知識(shí)產(chǎn)權(quán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯智勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 蘇州鑫德杰電子有限公司;江蘇守航實(shí)業(yè)有限公司
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法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體元件蝕刻液及其制備方法。蝕刻液組分包括:碘、碘化鈉、碘化銨、羧甲基殼聚糖、季戊四醇、山梨醇、銨鹽、正丁醇、乙醇、維生素C、BHT、山梨酸鉀、水。其制備方法為先將碘、季戊四醇、山梨醇、BHT、正丁醇和乙醇混合攪拌5?10分鐘,得溶液A;將碘化鈉、碘化銨、羧甲基殼聚糖、銨鹽、維生素、山梨酸鉀和水混合攪拌5?10分鐘得溶液B;將溶液A和B混合,加熱至30?40℃,攪拌20?30分鐘即得。本發(fā)明的蝕刻液蝕刻速度快,精度高,蝕刻均勻性強(qiáng);且制備方法簡(jiǎn)單,易控制,易于工業(yè)化生產(chǎn),生產(chǎn)成本低。