閘機(jī)設(shè)備及其控制方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010714603.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111856603A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-10-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111856603A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-30 |
| 分類(lèi)號(hào) | G01V5/00(2006.01)I | 分類(lèi) | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 魏清陽(yáng);劉亞強(qiáng);江年銘;許天鵬;黃帥 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京永新醫(yī)療設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 北京永新醫(yī)療設(shè)備有限公司 |
| 地址 | 101102北京市通州區(qū)中關(guān)村科技園區(qū)通州園金橋科技產(chǎn)業(yè)基地環(huán)科中路17號(hào)17A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種閘機(jī)設(shè)備以及應(yīng)用閘機(jī)設(shè)備所進(jìn)行的控制方法。其中，該設(shè)備包括：多個(gè)閘機(jī)本體和控制器，多個(gè)閘機(jī)本體中的相鄰兩個(gè)閘機(jī)本體之間形成閘機(jī)通道，閘機(jī)本體包括第一放射源探測(cè)器和第二放射源探測(cè)器，第一放射源探測(cè)器包括第一NaI閃爍晶體探測(cè)器和第一中子慢化劑材料層，第二放射源探測(cè)器包括第二NaI閃爍晶體探測(cè)器和第二中子慢化劑材料層；控制器，分別與每個(gè)閘機(jī)本體中的第一NaI閃爍晶體探測(cè)器和第二NaI閃爍晶體探測(cè)器連接；其中，控制器用于通過(guò)每個(gè)閘機(jī)本體中的第一NaI閃爍晶體探測(cè)器和第二NaI閃爍晶體探測(cè)器進(jìn)行放射源檢測(cè)，并根據(jù)放射源檢測(cè)結(jié)果，確定放射源所在的閘機(jī)通道。該設(shè)備可提高設(shè)備探測(cè)的準(zhǔn)確性。?? |
