干熄焦裝置及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122418439.4 申請日 -
公開（公告）號 CN215799313U 公開（公告）日 2022-02-11
申請公布號 CN215799313U 申請公布日 2022-02-11
分類號 C10B39/02（2006.01）I;C10B43/00（2006.01）I 分類 石油、煤氣及煉焦工業(yè)；含一氧化碳的工業(yè)氣體；燃料；潤滑劑；泥煤;
發(fā)明人 石巧囡;姜士敏;佟津;李晨;王欣悅 申請（專利權）人 華泰永創(chuàng)（北京）科技股份有限公司
代理機構 北京柏杉松知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 李曉紅;丁蕓
地址 100176北京市大興區(qū)經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十三街31號院二區(qū)15號樓5層501
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請實施例提供了一種干熄焦裝置及系統(tǒng)，干熄焦裝置包括干熄爐、氣體循環(huán)處理系統(tǒng)和排焦裝置，所述干熄爐上留有進氣口、出氣口和排料口；所述氣體循環(huán)處理系統(tǒng)連接在所述干熄爐的進氣口和出氣口之間；所述排焦裝置與所述干熄爐上的排料口連接，所述排焦裝置上設置有除塵口，所述除塵口與所述氣體循環(huán)處理系統(tǒng)連接；其中，所述氣體循環(huán)處理系統(tǒng)配置成使排焦煙氣以及自所述出氣口排出的循環(huán)氣體至少得到冷卻后經(jīng)所述進氣口鼓入所述干熄爐。應用本申請實施例，可以實現(xiàn)干熄焦裝置的排焦煙氣的有效處理。