一種用于實(shí)施化學(xué)氣相沉積過(guò)程的設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410093122.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103834931B 公開(kāi)（公告）日 2017-01-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN103834931B 申請(qǐng)公布日 2017-01-11
分類號(hào) C23C16/455(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 阿久津·仲男;陳皓;汪英杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 內(nèi)蒙古華延芯光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京權(quán)泰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 內(nèi)蒙古華延芯光科技有限公司
地址 內(nèi)蒙古自治區(qū)鄂爾多斯市杭錦旗錫尼鎮(zhèn)阿斯?fàn)栁鹘直钡囟愋^(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于實(shí)施化學(xué)氣相沉積過(guò)程的設(shè)備，其中最關(guān)鍵的反應(yīng)器主體2包括：加熱腔51、密封腔52和反應(yīng)腔53；其中加熱腔51中具有加熱器13、中空軸7、通氣法蘭15，其中所述通氣法蘭15固定在反應(yīng)器底板23上；其中密封腔52由反應(yīng)器底板23、加熱腔側(cè)壁14、密封腔壁521和密封腔頂板522所圍成；其中反應(yīng)腔53由反應(yīng)器底板23、密封腔側(cè)壁521、反應(yīng)腔側(cè)壁531、氣流通道上蓋10、密封腔頂板522、加熱腔頂蓋11以及中空軸7上部的外翻平板7?4所圍成，其特征在于，所述加熱腔頂蓋11能夠在所述中空軸7的帶動(dòng)下旋轉(zhuǎn)，且所述加熱腔側(cè)壁14能與所述加熱腔頂蓋11同步旋轉(zhuǎn)。