一種磁控濺射可鋼化雙銀LOW-E玻璃
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201120436675.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN202337032U | 公開(公告)日 | 2012-07-18 |
申請公布號 | CN202337032U | 申請公布日 | 2012-07-18 |
分類號 | B32B17/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 分類 | 層狀產(chǎn)品; |
發(fā)明人 | 林改 | 申請(專利權(quán))人 | 中山市格蘭特實(shí)業(yè)有限公司火炬分公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 中山市科創(chuàng)專利代理有限公司 | 代理人 | 謝自安 |
地址 | 528400 廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)火炬大道13號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種磁控濺射可鋼化雙銀LOW-E玻璃,包括有玻璃基片,其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地磁控濺射有十三個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為SiO2層,第二層為TiO2層,第三層為CrNx層,第四層為ZnO層,第五層為Ag層,第六層為NiCrOy層,第七層為TiO2層,第八層為ZnSn3O4層,第九層為ZnO層,第十層為Ag層,第十一層為NiCrOy層,第十二層為TiO2層,最外層為Si3N4Oy層。本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種透過率高,鍍膜層與玻璃基材的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻的磁控濺射可鋼化雙銀LOW-E玻璃。 |
