一種新型擴(kuò)散方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111359969.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114171377A 公開(kāi)（公告）日 2022-03-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN114171377A 申請(qǐng)公布日 2022-03-11
分類號(hào) H01L21/223（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 林佳繼;祁文杰;梁笑;范偉;毛文龍;盧佳 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州天昊專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 董世博;卓彩霞
地址 518118廣東省深圳市坪山區(qū)坑梓街道吉康路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種新型擴(kuò)散方法，在爐管進(jìn)氣端增加勻流裝置，使得氣體進(jìn)入爐管后被均勻打散，避免氣流直接對(duì)硅片進(jìn)行沖擊，改善了爐尾上中下的片間差異。本發(fā)明通源時(shí)在近出氣口處補(bǔ)充氮?dú)猓♂寭诫s源，將氣體混合并推動(dòng)，改善了局部摻雜源的濃度差異，提高了硅片方阻均勻性，可以在不改變現(xiàn)有的排氣結(jié)構(gòu)下改善排氣管進(jìn)口位置片間的均勻性，且對(duì)其他舟內(nèi)的方阻無(wú)影響，可實(shí)現(xiàn)單獨(dú)調(diào)控區(qū)域方阻。