多級吹掃式硅片制絨處理裝置及其控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510167176.0 申請日 -
公開（公告）號 CN104752565B 公開（公告）日 2017-01-04
申請公布號 CN104752565B 申請公布日 2017-01-04
分類號 H01L31/18(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 高文秀;李帥;趙百通 申請（專利權(quán)）人 江蘇盎華光伏工程技術(shù)研究中心有限公司
代理機構(gòu) 上?？坡蓪＠硎聞?wù)所（特殊普通合伙） 代理人 金碎平;袁亞軍
地址 214213 江蘇省無錫市宜興經(jīng)濟開發(fā)區(qū)文莊路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多級吹掃式硅片制絨處理裝置及其控制方法，包括反應(yīng)腔室，所述反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)有硅片運動載臺，其中，所述反應(yīng)腔室上至少設(shè)有兩個等離子體下游吹掃式處理單元，所述反應(yīng)腔室的進口處設(shè)有前緩沖腔室和前閘板閥，所述反應(yīng)腔室的出口處設(shè)有后緩沖腔室和后閘板閥，所述反應(yīng)腔室上靠近后緩沖腔室處設(shè)有反應(yīng)腔真空抽口，所述硅片運動載臺的下方設(shè)有恒溫輻射塊。本發(fā)明提供的多級吹掃式硅片制絨處理裝置及其控制方法，采用了多級吹掃式硅片處理單元，可方便采用獨立的工作氣體流量比例及刻蝕時間，實現(xiàn)快捷高效的硅片處理過程；配合硅片運動載臺及恒溫輻射塊提高刻蝕速率，從而實現(xiàn)在線連續(xù)處理，并提高硅片制絨效果。