一種拋光設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911422782.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113059453A 公開（公告）日 2021-07-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN113059453A 申請(qǐng)公布日 2021-07-02
分類號(hào) B24B27/00;B24B29/02;B24B41/06;B24B53/007;B24B41/00 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 楊兆明;顏凱;川嶋勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江芯暉裝備技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 314400 浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)隆興路118號(hào)內(nèi)主辦公樓3樓370室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種拋光設(shè)備，包括拋光工位和第一轉(zhuǎn)接工位，拋光工位包括第一上下料區(qū)、第一拋光區(qū)、第二上下料區(qū)和第二拋光區(qū)，拋光工位上設(shè)置有轉(zhuǎn)盤、拋光盤、拋光頭和拋光盤清洗機(jī)構(gòu)，兩個(gè)拋光頭分別設(shè)置在第一拋光區(qū)和第二拋光區(qū)處，兩個(gè)拋光盤清洗機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在第一上下料區(qū)和第二上下料區(qū)，轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有四個(gè)拋光盤，轉(zhuǎn)盤能夠轉(zhuǎn)動(dòng)以使其上的拋光盤交替與拋光頭和拋光盤清洗機(jī)構(gòu)相對(duì)設(shè)置。第一轉(zhuǎn)接工位上設(shè)置有翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，可選擇地對(duì)硅片進(jìn)行翻轉(zhuǎn)。該拋光設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)硅片的雙面拋光以及硅片單面的粗拋和精拋，其適用性好；通過合理布局各工序設(shè)備之間的位置，能夠提高作業(yè)效率。