一種用于晶圓加工的新型拋光機
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111142744.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113814854A | 公開(公告)日 | 2021-12-21 |
申請公布號 | CN113814854A | 申請公布日 | 2021-12-21 |
分類號 | B24B27/00(2006.01)I;B24B55/02(2006.01)I;B24B55/06(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I;B24B49/00(2012.01)I;B24B55/00(2006.01)I;F26B21/00(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 楊兆明;李曉峰;張峰 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江芯暉裝備技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 浙江永航聯(lián)科專利代理有限公司 | 代理人 | 蔡鼎 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市漕河涇路17號3號樓2207室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種用于晶圓加工的新型拋光機,屬于晶圓加工技術(shù)領(lǐng)域,它解決了現(xiàn)有拋光機拋光效率低等技術(shù)問題。本發(fā)明包括底座,底座上端設(shè)有安裝平臺,安裝平臺內(nèi)部設(shè)有凸輪分割器,凸輪分割器的輸出軸上固定有轉(zhuǎn)動平臺,安裝平臺上設(shè)有第一工位至第五工位,第一工位至第五工位與底座之間均設(shè)有拋光筒,拋光筒內(nèi)部轉(zhuǎn)動設(shè)有不同規(guī)格的拋光盤,第四工位的拋光盤上設(shè)有磨邊機構(gòu),第一工位至第五工位上均設(shè)有滴液器,轉(zhuǎn)動平臺上端中部設(shè)有氣泵,轉(zhuǎn)動平臺上端設(shè)有五個圓周均布的調(diào)節(jié)吸盤機構(gòu),安裝平臺上設(shè)有進料檢測履帶機構(gòu)和出料檢測履帶機構(gòu)。本發(fā)明可對晶圓進行多方向相對位移的拋光,可對邊緣進行拋光,自動化程度高,拋光精度高。 |
