基于超表面技術(shù)的光譜儀和電子設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210347613.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114705291A | 公開(公告)日 | 2022-07-05 |
申請公布號 | CN114705291A | 申請公布日 | 2022-07-05 |
分類號 | G01J3/02(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 楊新征;孫磊;邱兵 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州山河光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市漢坤律師事務(wù)所 | 代理人 | - |
地址 | 300450天津市濱海新區(qū)天津經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)濱海-中關(guān)村科技園華塘睿城一區(qū)3號樓二層B區(qū)015號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開提供了一種光譜儀和一種電子設(shè)備。該光譜儀包括:準(zhǔn)直器,被配置為對從狹縫出射的光進(jìn)行準(zhǔn)直;至少一個(gè)光柵陣列,彼此光學(xué)地級聯(lián),并被配置為對來自準(zhǔn)直器的光進(jìn)行引導(dǎo)和色散,入射到每個(gè)光柵陣列的光被該光柵陣列偏轉(zhuǎn);至少一個(gè)超構(gòu)表面陣列,被配置為對來自至少一個(gè)光柵陣列的光進(jìn)行引導(dǎo)和聚焦,入射到至少一個(gè)超構(gòu)表面陣列的不同波長的光被至少一個(gè)超構(gòu)表面陣列聚焦到檢測平面的不同位置處;以及至少一個(gè)光電探測器,被配置為在檢測平面處接收來自至少一個(gè)超構(gòu)表面陣列的光。 |
