覆蓋有反射層的超表面光學器件、光學設備及制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210038421.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114371521A 公開（公告）日 2022-04-19
申請公布號 CN114371521A 申請公布日 2022-04-19
分類號 G02B1/00（2006.01）I;G02B1/10（2015.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 邱兵;孫磊 申請（專利權）人 蘇州山河光電科技有限公司
代理機構 北京市漢坤律師事務所 代理人 魏小薇;吳麗麗
地址 300450天津市濱海新區(qū)天津經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)濱海-中關村科技園華塘睿城一區(qū)3號樓二層B區(qū)015號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開提供一種超表面光學器件、光學設備及制造超表面光學器件的方法。該超表面光學器件包括：襯底；位于襯底上的光學介質層；以及位于光學介質層中的多個納米孔，多個納米孔貫穿光學介質層而延伸至襯底，其中，多個納米孔的孔壁上覆蓋有反射層。