具有能量禁帶的超表面光學(xué)器件及光學(xué)設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202220205197.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN216622743U | 公開(公告)日 | 2022-05-27 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216622743U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-27 |
分類號(hào) | G02B1/00(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 孫磊;邱兵 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州山河光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市漢坤律師事務(wù)所 | 代理人 | - |
地址 | 300450天津市濱海新區(qū)天津經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)濱海-中關(guān)村科技園華塘睿城一區(qū)3號(hào)樓二層B區(qū)015號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開提供一種超表面光學(xué)器件及光學(xué)設(shè)備。超表面光學(xué)器件包括:襯底;以及位于襯底上的納米結(jié)構(gòu)層,納米結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)光子晶體單元,每個(gè)光子晶體單元包括在襯底上排列的多個(gè)納米結(jié)構(gòu)單元,多個(gè)納米結(jié)構(gòu)單元被排列使得在該光子晶體單元的平行于襯底的橫截面中形成能量禁帶,能量禁帶環(huán)繞橫截面的中心區(qū)域。 |
