絕緣柵雙極型晶體管及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210117032.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114156180A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114156180A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-08 |
分類(lèi)號(hào) | H01L21/331(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡鈺祺 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 紹興中芯集成電路制造股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 田婷 |
地址 | 312000浙江省紹興市皋埠鎮(zhèn)臨江路518號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種絕緣柵雙極型晶體管及其制造方法,所述絕緣柵雙極型晶體管的制造方法包括:提供一襯底,形成溝槽于所述襯底中;形成摻雜層于所述溝槽底部;執(zhí)行退火工藝,使得所述摻雜層中的摻雜離子擴(kuò)散進(jìn)入所述襯底中,以形成包圍所述溝槽底部的少子存儲(chǔ)層;去除所述摻雜層;形成柵極結(jié)構(gòu)于所述溝槽中;以及,形成體區(qū)于所述溝槽兩側(cè)的襯底頂部,所述體區(qū)與所述少子存儲(chǔ)層之間間隔所述襯底。本發(fā)明的技術(shù)方案能夠減小對(duì)閾值電壓的影響且降低成本。 |
