光罩組及晶圓標(biāo)注方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210135132.X 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN114185244A 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號(hào) CN114185244A 申請公布日 2022-03-15
分類號(hào) G03F1/38（2012.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張弓玉帛;徐圣強(qiáng);袁立春 申請（專利權(quán)）人 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 曹廷廷
地址 312000浙江省紹興市皋埠鎮(zhèn)臨江路518號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光罩組及晶圓標(biāo)注方法，該光罩組具有第一光罩和第二光罩，第一光罩具有多個(gè)第一晶粒圖形區(qū)，第一晶粒圖形區(qū)中設(shè)有第一標(biāo)識(shí)，各個(gè)第一晶粒圖形區(qū)的第一標(biāo)識(shí)均相同，第二光罩設(shè)置有多個(gè)與第一光罩上的第一晶粒圖形區(qū)一一對應(yīng)的第二晶粒圖形區(qū)，各個(gè)第二晶粒圖形區(qū)均包括相同的身份標(biāo)識(shí)區(qū)，身份標(biāo)識(shí)區(qū)中設(shè)有與晶圓上各個(gè)曝光區(qū)域一一對應(yīng)且互不相同的第二標(biāo)識(shí)。利用第一光罩和第二光罩的先后曝光以及相應(yīng)的光刻套刻對準(zhǔn)偏差，能夠?yàn)榫A上每顆晶粒都標(biāo)注上與之相配的曝光區(qū)域的身份標(biāo)識(shí)或者晶粒自己的唯一身份標(biāo)識(shí)，由此使得每一顆晶粒從晶圓上切割下來后仍然能被識(shí)別出其原先在晶圓的哪個(gè)曝光區(qū)域或者哪個(gè)位置坐標(biāo)。