一種發(fā)光薄膜、氧氣探測裝置及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110092944.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113155754A | 公開(公告)日 | 2021-07-23 |
申請公布號 | CN113155754A | 申請公布日 | 2021-07-23 |
分類號 | G01N21/27(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 俱陽陽;鐘海政;李飛;張萍萍 | 申請(專利權)人 | 致晶科技(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京元周律知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 校麗麗 |
地址 | 100081北京市海淀區(qū)中關村南大街5號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種發(fā)光薄膜、氧氣探測裝置及其制作方法,屬于光學傳感技術領域,能夠解決現(xiàn)有氧氣探測裝置制備方法較復雜,且響應速度較慢的問題。所述氧氣探測裝置包括激發(fā)光源、光譜探測器、處理器,以及發(fā)光薄膜;發(fā)光薄膜包括鈣鈦礦納米材料;鈣鈦礦納米材料的通式為A2(Ma,Fa)m?1BmX3m+1,其中A代表有機長鏈大分子,B代表二價金屬陽離子,X代表鹵素離子,m代表有機鏈之間的金屬陽離子層數(shù)。激發(fā)光源發(fā)出的光照射在發(fā)光薄膜上,用于激發(fā)發(fā)光薄膜產(chǎn)生光信號;光譜探測器用于探測光信號的強度;處理器用于根據(jù)光信號的強度計算發(fā)光薄膜所處環(huán)境的氧氣濃度。本發(fā)明用于氧氣濃度的測量。 |
