一種像素化轉光層及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010186060.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113410370A 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN113410370A 申請公布日 2021-09-17
分類號 H01L33/50（2010.01）I;H01L51/56（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 鐘海政;孟令海;施立甫;王晶晶;李勁 申請（專利權）人 致晶科技（北京）有限公司
代理機構 北京元周律知識產權代理有限公司 代理人 張梅娟
地址 100081北京市海淀區(qū)中關村南大街5號二區(qū)683棟8層01室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種像素化轉光層及其制備方法，所述方法至少包括：獲得含有像素槽的基板；將含有發(fā)光材料前驅體的溶液轉移到基板的像素槽內，發(fā)光材料前驅體原位生成發(fā)光材料，得到填充發(fā)光材料的基板；在上述基板表面涂覆封裝材料，得到像素化轉光層。本發(fā)明只需將發(fā)光材料前驅體直接填入基板像素槽內，封裝，即可實現(xiàn)鈣鈦礦納米晶的像素化圖案制備，省去了后續(xù)的打印和封裝工序，降低了成本，得到的封裝好的圖案化鈣鈦礦納米晶可以作為彩色轉光層，低成本實現(xiàn)了顯示器件的彩色化顯示。本發(fā)明提供了一種新的面向顯示的鈣鈦礦納米晶圖案化技術，無需配制專門的鈣鈦礦納米晶墨水，也無需復雜的打印設備。