滾鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110471136.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113293426A 公開（公告）日 2021-08-24
申請公布號 CN113293426A 申請公布日 2021-08-24
分類號 C25D17/20（2006.01）I;C25D17/10（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 魏中華;何劍鋒;陳斌強(qiáng);張曉偉;付松;陳彪 申請（專利權(quán)）人 浙江英洛華磁業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 代理人 林君勇
地址 322118浙江省金華市東陽市橫店電子工業(yè)園浙江英洛華磁業(yè)有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種滾鍍裝置，包括左支撐板和與左支撐板相對設(shè)置的右支撐板，所述左支撐板和右支撐板之間設(shè)有滾筒，所述滾筒的側(cè)壁上設(shè)有多個網(wǎng)孔，所述滾筒的兩端分別與左支撐板和右支撐板轉(zhuǎn)動連接，所述滾筒內(nèi)設(shè)有至少一個電極頭，所述電極頭通過硬支撐結(jié)構(gòu)固定在滾筒內(nèi)，所述滾筒相對電極頭轉(zhuǎn)動，所述滾筒轉(zhuǎn)動時，所述電極頭保持不動。本發(fā)明具有可避免極頭和零件由于滾筒滾動而造成碰撞，防止零件破碎或者斷裂，保證零件的電鍍質(zhì)量等特點。