一種多波段光學曝光系統(tǒng)、設備及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811579233.6 申請日 -
公開（公告）號 CN109407473A 公開（公告）日 2021-06-11
申請公布號 CN109407473A 申請公布日 2021-06-11
分類號 G03F7/20 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 陳海巍;宋志尚;李顯杰;錢聰;程珂;茆曉華;吳長江;徐敏;王偉;王軍華;劉世林;袁征;蒯多杰 申請（專利權）人 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
代理機構 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 張勇
地址 214000 江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道200號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園F3棟1-3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多波段光學曝光系統(tǒng)、設備及方法，屬于印刷線路板技術領域。本發(fā)明提供的多波段光學曝光系統(tǒng)、設備及方法通過把不同波長光源進行分離，不同波長的光源匹配對應的光學器件，提高了光學器件的使用壽命，并通過將匹配不同波長的光源的曝光子系統(tǒng)設置在多波段光學曝光系統(tǒng)掃描方向上不同的位置處，使得不同的曝光子系統(tǒng)實現(xiàn)在材料的不同深度處、或與不同的光引發(fā)劑發(fā)生光化學反應有一定時間間隔，使光化學反應更為充分，讓復合光敏材料的圖形光澤度更好、清晰度更高，同時使曝光設備的產(chǎn)能整體和工作效率得到了提高。