一種雙面曝光的對準裝置、方法及設備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201811557789.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN109613803B | 公開（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申請公布號 | CN109613803B | 申請公布日 | 2021-05-28 |
| 分類號 | G03F9/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 傅志偉 | 申請（專利權）人 | 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司 |
| 代理機構 | 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 張勇 |
| 地址 | 221000 江蘇省徐州市邳州市恒山路西側 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種雙面曝光的對準裝置、方法及設備，屬于印刷線路板技術領域。所述裝置包括：包括定位標記、打標標記和位置獲取裝置，在每一件待曝光樣品曝光之前都通過位置獲取裝置獲取定位標記的位置信息，從而獲知定位標記的在實際生產(chǎn)中的位置變化量，由于打標標記和定位標記的相對位置不變，所以即獲知到打標標記在實際生產(chǎn)中的位置變化量，根據(jù)該位置變化量實時調(diào)整待曝光樣品的另一面曝光圖形的位置，解決了現(xiàn)有技術無法實時對打標標記進行實時定位而引起的曝光對位不準的問題，提高了待曝光樣品雙面對準的精度。?? |
