晶圓承載裝置及工藝腔室
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111432272.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114220758A | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請公布號 | CN114220758A | 申請公布日 | 2022-03-22 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 韓立仁;鄧斌;于斌;史全宇 | 申請(專利權(quán))人 | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 彭瑞欣;王婷 |
地址 | 100176北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)文昌大道8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種晶圓承載裝置及工藝腔室,其中,晶圓承載裝置包括基座、靜電卡盤、驅(qū)動部件和多個頂升部件,靜電卡盤設(shè)置在基座上,用于吸附并承載晶圓,且靜電卡盤能夠與基座可選擇的吸附;驅(qū)動部件與多個頂升部件連接,用于驅(qū)動多個頂升部件升降,頂升部件用于在驅(qū)動部件的驅(qū)動下穿過基座,并與靜電卡盤朝向基座的一面相抵,帶動靜電卡盤升降,使靜電卡盤與基座分離或者貼合。本發(fā)明提供的晶圓承載裝置及工藝腔室能夠提高設(shè)備利用率及產(chǎn)能,并節(jié)省工藝組件,降低成本。 |
