立式熱處理設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111447283.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114220750A 公開(kāi)（公告）日 2022-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114220750A 申請(qǐng)公布日 2022-03-22
分類號(hào) H01L21/67（2006.01）I;H01L21/324（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李元志;劉科學(xué);吳艷華;孫妍;周文飛;魏明蕊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京國(guó)昊天誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 高東
地址 100176北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)文昌大道8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開(kāi)一種立式熱處理設(shè)備，包括工藝爐和爐門，該爐門用于密封該工藝爐的爐口；該爐門包括隔熱盤(pán)和冷卻盤(pán)，其中：該隔熱盤(pán)為石英結(jié)構(gòu)件，該隔熱盤(pán)具有相背設(shè)置的密封面和第一安裝面，該爐門通過(guò)該密封面密封該爐口；該冷卻盤(pán)具有第二安裝面；在該第一安裝面和該第二安裝面中，其中一者上設(shè)置有定位凸部，另一者上設(shè)置有定位凹部，該定位凸部可與該定位凹部定位配合，該隔熱盤(pán)通過(guò)該定位凸部和該定位凹部的配合而定位安裝于該冷卻盤(pán)。上述方案能夠防止隔熱盤(pán)與冷卻盤(pán)之間產(chǎn)生相對(duì)位移。