一種還原爐進料噴嘴

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023280990.9 申請日 -
公開（公告）號 CN214141603U 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN214141603U 申請公布日 2021-09-07
分類號 C01B33/035（2006.01）I 分類 無機化學(xué);
發(fā)明人 鄒仁蘇;楊德志 申請（專利權(quán)）人 新疆大全新能源股份有限公司
代理機構(gòu) 北京鼎佳達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 孟阿妮;張小勇
地址 832000新疆維吾爾自治區(qū)石河子市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)化工新材料產(chǎn)業(yè)園緯六路16號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及多晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種還原爐進料噴嘴。主要技術(shù)方案為：一種還原爐進料噴嘴，包括:本體、噴腔和噴槽；所述本體為圓柱體；所述本體的外壁上具有螺紋結(jié)構(gòu)；所述噴腔設(shè)置在所述本體上，與所述本體同軸設(shè)置；所述噴腔從所述本體的一端連通至所述本體的另一端；所述噴槽設(shè)置在所述本體的外壁上；所述噴槽從所述本體的一端延伸至所述本體的另一端；所述噴槽為沿直線延伸的凹槽結(jié)構(gòu)；所述噴槽的延伸直線與所述本體的軸線具有預(yù)定夾角；所述噴槽為多個；多個所述噴槽以所述本體的軸線為中心陣列設(shè)置。采用本實用新型能夠改善還原爐內(nèi)的氣場及流體分布，提升硅棒生長速率，提高產(chǎn)品品質(zhì)。