一種磁材雙面鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920408132.6 申請日 -
公開（公告）號 CN209778986U 公開（公告）日 2019-12-13
申請公布號 CN209778986U 申請公布日 2019-12-13
分類號 C23C14/50;H01F41/14 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李啟炎 申請（專利權(quán)）人 浙江云度新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州永繹專利代理事務所（普通合伙） 代理人 許傳秀
地址 315100 浙江省寧波市鄞州區(qū)潘火街道寧創(chuàng)科技中心1號2806室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及磁材加工設備技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種磁材雙面鍍膜裝置，包括入片料架，所述入片料架的一側(cè)設有進片室，所述進片室的一側(cè)設有進過渡室，所述進過渡室的一側(cè)設有進緩沖室，所述進緩沖室的一側(cè)設有鍍膜室，所述鍍膜室的一側(cè)設有出緩沖室。該磁材雙面鍍膜裝置，通過套裝在液壓桿內(nèi)的套桿以及彈簧的配合，在利用夾塊夾緊磁材時，進行緩沖，從而將夾塊與磁材的剛性擠壓轉(zhuǎn)變?yōu)閺椥詳D壓，避免磁材被損傷，利用通過軸與連接架活動連接的托板，當傳送帶將托板從其上方轉(zhuǎn)動至下方時，托板通過軸始終保持水平狀態(tài)，不會隨連接架發(fā)生轉(zhuǎn)動，從而避免放料槽中的磁材在翻面后利用傳送帶輸送回入片料架過程中發(fā)生掉落。