一種磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920408150.4 申請日 -
公開（公告）號 CN209778984U 公開（公告）日 2019-12-13
申請公布號 CN209778984U 申請公布日 2019-12-13
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李啟炎 申請（專利權）人 浙江云度新材料科技有限公司
代理機構 杭州永繹專利代理事務所（普通合伙） 代理人 許傳秀
地址 315100 浙江省寧波市鄞州區(qū)潘火街道寧創(chuàng)科技中心1號2806室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及磁控濺射靶材技術領域，且公開了一種磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材，包括第一靶材，第一靶材的右側(cè)固定連接有第二靶材，第二靶材的右側(cè)固定連接有第三靶材，第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活動連接有基座，基座頂部的兩側(cè)均開設有第一長槽，兩個第一長槽內(nèi)部的一側(cè)均活動連接有L形板，L形板的數(shù)量為四個，且兩個L形板為一組，兩個L形板的底端均通過第一長槽活動套裝于基座的內(nèi)部。該磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材，通過第一靶材、第二靶材和第三靶材之間的配合設置，同時通過靶材之間的四十五度斜角拼接技術，能夠有效防止鍍膜過程時出現(xiàn)整條縫隙沒有靶材的現(xiàn)象，能夠有效避免靶材提前損耗，從而提高靶材的利用率。