一種磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920408150.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN209778984U | 公開(kāi)（公告）日 | 2019-12-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209778984U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-13 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李啟炎 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 浙江云度新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州永繹專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 許傳秀 |
| 地址 | 315100 浙江省寧波市鄞州區(qū)潘火街道寧創(chuàng)科技中心1號(hào)2806室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及磁控濺射靶材技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材，包括第一靶材，第一靶材的右側(cè)固定連接有第二靶材，第二靶材的右側(cè)固定連接有第三靶材，第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活動(dòng)連接有基座，基座頂部的兩側(cè)均開(kāi)設(shè)有第一長(zhǎng)槽，兩個(gè)第一長(zhǎng)槽內(nèi)部的一側(cè)均活動(dòng)連接有L形板，L形板的數(shù)量為四個(gè)，且兩個(gè)L形板為一組，兩個(gè)L形板的底端均通過(guò)第一長(zhǎng)槽活動(dòng)套裝于基座的內(nèi)部。該磁材鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)靶材，通過(guò)第一靶材、第二靶材和第三靶材之間的配合設(shè)置，同時(shí)通過(guò)靶材之間的四十五度斜角拼接技術(shù)，能夠有效防止鍍膜過(guò)程時(shí)出現(xiàn)整條縫隙沒(méi)有靶材的現(xiàn)象，能夠有效避免靶材提前損耗，從而提高靶材的利用率。 |
