原子層沉積系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201830204173.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN304993848S | 公開(公告)日 | 2019-01-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN304993848S | 申請(qǐng)公布日 | 2019-01-11 |
分類號(hào) | - | 分類 | - |
發(fā)明人 | 鄭文岸;張光海;李哲峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市原速科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)新安街道興東社區(qū)優(yōu)創(chuàng)空間1號(hào)樓511-513 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 1.本外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品的名稱:原子層沉積系統(tǒng)。2.本外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品的用途:本外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品用于原子層薄膜沉積。3.本外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)要點(diǎn):產(chǎn)品的形狀。4.最能表明本外觀設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)要點(diǎn)的圖片或照片:立體圖。 |
