一種二極管生產(chǎn)加工用刻蝕裝置及其使用方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110941681.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113823583A | 公開（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113823583A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-21 |
| 分類號(hào) | H01L21/67（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 華鐵軍;黃春城 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇海創(chuàng)微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 安徽致至知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 秦玉霞 |
| 地址 | 224000江蘇省鹽城市大豐區(qū)新豐鎮(zhèn)創(chuàng)客園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種二極管生產(chǎn)加工用刻蝕裝置及其使用方法，包括調(diào)整機(jī)構(gòu)和靜電機(jī)構(gòu)，承接內(nèi)筒外圈的靜電機(jī)構(gòu)環(huán)繞傳動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行螺旋旋轉(zhuǎn)，利用外接觸件與撥動(dòng)排列軸進(jìn)行接觸，二者之間摩擦產(chǎn)生靜電，因外接觸件的環(huán)形陣列開設(shè)，使其成為一個(gè)類圓狀，從而產(chǎn)生的靜電形成一類圓狀電場(chǎng)，產(chǎn)生的類圓形靜電場(chǎng)直徑大于刻蝕襯底的直徑，使其能夠?qū)涛g襯底上的二極管進(jìn)行限位，產(chǎn)生的靜電場(chǎng)通過外伸橫桿對(duì)其進(jìn)行吸引，使產(chǎn)生的靜電場(chǎng)的邊緣高度提升，使整體靜電場(chǎng)成為類倒漏斗狀，對(duì)濕法刻蝕時(shí)的化學(xué)反應(yīng)生成的物質(zhì)進(jìn)行吸附，且能夠?qū)γ荛]器皿中的雜質(zhì)進(jìn)行阻隔，使刻蝕襯底上的二極管接觸雜質(zhì)減少。 |
