一種耐電暈聚酰亞胺薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011574426.X 申請日 -
公開(公告)號 CN112574447A 公開(公告)日 2021-03-30
申請公布號 CN112574447A 申請公布日 2021-03-30
分類號 C08G73/10(2006.01)I;C09D179/08(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C09D7/61(2018.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08J7/04(2020.01)I 分類 有機高分子化合物;其制備或化學(xué)加工;以其為基料的組合物;
發(fā)明人 張明玉;吳斌;張春琪;顧健峰;翁凌;程小榮;徐曉風(fēng) 申請(專利權(quán))人 歐邦科技(蘇州)有限公司
代理機構(gòu) 蘇州創(chuàng)元專利商標事務(wù)所有限公司 代理人 汪青
地址 215214江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖經(jīng)濟開發(fā)區(qū)北厙育才路36號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種耐電暈聚酰亞胺薄膜及其制備方法,該薄膜包括位于中間的聚酰亞胺純層,以及分設(shè)于聚酰亞胺純層上下表面的雜化層,每側(cè)雜化層包括自聚酰亞胺純層表面向外依次設(shè)置的摻雜有氧化鋁的聚酰亞胺雜化層、摻雜有二氧化硅的聚酰亞胺雜化層、摻雜有二氧化鈦的聚酰亞胺雜化層。本發(fā)明采用逐層輥涂的方式制備該耐電暈聚酰亞胺薄膜。中間的聚酰亞胺純層既能夠維持復(fù)合薄膜優(yōu)異的力學(xué)性能,又和雜化層形成層間界面增強復(fù)合薄膜的介電性能;位于聚酰亞胺純層上下兩個表面的三層復(fù)合薄膜的雜化層,通過不同無機粒子在聚酰亞胺基體內(nèi)部不同的層狀分布和在薄膜內(nèi)部的立體空間上利用無機粒子形成密集的防護層,意外獲得了顯著提升的耐電暈效果。??