用于金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備反應(yīng)室的進(jìn)氣噴淋頭

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201110451659.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN102492937A 公開(kāi)（公告）日 2012-06-13
申請(qǐng)公布號(hào) CN102492937A 申請(qǐng)公布日 2012-06-13
分類號(hào) C23C16/455(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 冉軍學(xué);胡強(qiáng);梁勇;胡國(guó)新;王軍喜;曾一平;李晉閩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣東省中科宏微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 代理人 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所;廣東省中科宏微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
地址 100083 北京市海淀區(qū)清華東路甲35號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種用于金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備反應(yīng)室的進(jìn)氣噴淋頭，包括：一混氣室，該混氣室為一桶狀，在混氣室的上面或側(cè)面連通有多個(gè)進(jìn)氣通道；一冷卻勻氣噴頭，固接于混氣室的下面。其中冷卻勻氣噴頭包括：一上蓋板、一下蓋板和側(cè)壁，該上蓋板、一下蓋板和側(cè)壁構(gòu)成密封的空間，該上蓋板和下蓋板之間貫通有多個(gè)進(jìn)氣通道，該進(jìn)氣通道的周圍及上蓋板和下蓋板之間為冷卻通道。