一種3D膜的制備方法及裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111590429.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114311088A | 公開(公告)日 | 2022-04-12 |
申請公布號 | CN114311088A | 申請公布日 | 2022-04-12 |
分類號 | B26D3/08(2006.01)I;B26D7/27(2006.01)I | 分類 | 手動切割工具;切割;切斷; |
發(fā)明人 | 董家亮;鮮成波;韓巖輝;王華波;楊楓;魏厚偉;洪曉明;顧開宇 | 申請(專利權)人 | 寧波維真顯示科技股份有限公司 |
代理機構 | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 | 代理人 | 岳泉清 |
地址 | 315105浙江省寧波市鄞州區(qū)啟明路655-77號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種3D膜的制備方法及裝置,屬于3D顯示領域,本發(fā)明為解決現(xiàn)有1/2相位差補償膜制備工藝存在的問題。本發(fā)明方法包括以下步驟:S1、1/2相位差補償膜雕刻步驟:帶有保護膜的1/2相位差補償膜通過送料輥輸送至磁性輥筒處,利用雕刻輔助層與磁性輥筒的磁吸性能將1/2相位差補償膜固定在磁性輥筒表面,所述雕刻輔助層為半圓鐵罩,且保護膜靠近雕刻輔助層;利用雕刻刀具同步在雕刻輔助層、保護膜及1/2相位差補償膜微雕實現(xiàn)1/2相位差補償膜的圖案化處理;S2、偏振片與圖案化處理后的1/2相位差補償膜復合步驟;S3、1/2相位差補償膜的保護膜回收步驟;S4、偏振片、1/2相位差補償膜和AG膜的復合成3D膜的步驟。本發(fā)明將微雕技術應用于3D膜的制備。 |
