一種清洗支架及其組成的超聲波清洗系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201822212857.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN209631778U 公開（公告）日 2019-11-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN209631778U 申請(qǐng)公布日 2019-11-15
分類號(hào) B08B13/00;B08B3/12 分類 清潔;
發(fā)明人 費(fèi)亞玲;郭桂華;胡小彪;葛榮軍;雷一杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣東喜瑪拉雅氫能科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢喜瑪拉雅光電科技股份有限公司
地址 430000湖北省咸寧市咸安區(qū)永安東路38號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種清洗支架及其組成的超聲波清洗系統(tǒng)，包括掛件和托物架，所述掛件為兩個(gè)，兩個(gè)所述掛件相對(duì)間隔設(shè)置在所述托物架的上端，所述托物架沿左右方向水平設(shè)置且為方體形，其上端均布有多個(gè)儲(chǔ)物槽，每個(gè)所述儲(chǔ)物槽的槽底具有上下貫穿其的通孔，兩個(gè)所述掛件相對(duì)置于所述托物架上端的左右兩側(cè)，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，在儲(chǔ)物槽的槽底設(shè)置通孔可便于清洗后迅速將物件瀝干。