光子測量裝置及光子測量設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010698734.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111694043A | 公開（公告）日 | 2020-09-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111694043A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-22 |
| 分類號(hào) | G01T1/202(2006.01)I;G01T1/16(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 彭旗宇;楊靜梧;謝思維;王宇黎;袁東升 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中派科技（深圳）有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京睿邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 徐丁峰;戴亞南 |
| 地址 | 518063廣東省深圳市南山區(qū)科技南十二路18號(hào)長虹科技大廈903 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種光子測量裝置和光子測量設(shè)備。裝置包括：反應(yīng)晶體，反應(yīng)晶體包括一個(gè)或多個(gè)晶體單元；電容導(dǎo)體，電容導(dǎo)體包括與一個(gè)或多個(gè)晶體單元一一對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)體對(duì)，每個(gè)導(dǎo)體對(duì)包括分別布置在對(duì)應(yīng)晶體單元的相對(duì)的兩側(cè)的第一導(dǎo)體和第二導(dǎo)體，其中，每個(gè)晶體單元與對(duì)應(yīng)的導(dǎo)體對(duì)構(gòu)成一個(gè)或多個(gè)晶體電容單元，每個(gè)晶體電容單元包括屬于對(duì)應(yīng)晶體單元的任一晶體區(qū)域以及夾在該晶體區(qū)域兩側(cè)的屬于對(duì)應(yīng)第一導(dǎo)體的第一導(dǎo)體區(qū)域和屬于對(duì)應(yīng)第二導(dǎo)體的第二導(dǎo)體區(qū)域；檢測電路，與電容導(dǎo)體連接，用于檢測所有晶體電容單元的介電常數(shù)的變化情況，并基于變化情況確定與反應(yīng)晶體發(fā)生反應(yīng)的高能光子的到達(dá)時(shí)間。上述裝置和設(shè)備可實(shí)現(xiàn)高精度時(shí)間測量。?? |
