一種磁控濺射裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201922217023.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211311573U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-08-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211311573U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-21 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 夏偉;張兵;鄭建軍;張成金;姚仕軍;方添志;趙帥 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 天津美泰真空技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 天津合正知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 天津美泰真空技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 301609天津市靜海區(qū)大豐堆鎮(zhèn)靳莊子村南200米 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型創(chuàng)造提供了一種磁控濺射裝置，包括設(shè)置在真空腔室內(nèi)的靶材和基板；靶材由驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)，以實(shí)現(xiàn)圓周方向的轉(zhuǎn)動(dòng)和長(zhǎng)度方向的來(lái)回移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)單元與靶材間通過(guò)過(guò)渡軸連接，在過(guò)渡軸上設(shè)有設(shè)有感應(yīng)區(qū)，在真空室內(nèi)壁上對(duì)應(yīng)感應(yīng)器設(shè)有接近開(kāi)關(guān)，當(dāng)靶材來(lái)回移動(dòng)到達(dá)感應(yīng)區(qū)的近端測(cè)點(diǎn)和遠(yuǎn)端測(cè)點(diǎn)處，接近開(kāi)關(guān)分別反饋給驅(qū)動(dòng)單元換向信號(hào)；近端測(cè)點(diǎn)處設(shè)有近端凸起環(huán)，在遠(yuǎn)端測(cè)點(diǎn)處設(shè)有遠(yuǎn)端凸起環(huán)；所述近端凸起環(huán)處于過(guò)渡軸上靠近靶材的一端。本實(shí)用新型創(chuàng)造結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理，通過(guò)驅(qū)動(dòng)單元可以對(duì)靶材進(jìn)行圓周方向的轉(zhuǎn)動(dòng)和長(zhǎng)度方向的來(lái)回移動(dòng)，能夠最大限度的充分利用靶材原料，節(jié)能環(huán)保，對(duì)降低生產(chǎn)成本有良好效果。?? |
