一種磁控濺射裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922217023.9 申請日 -
公開（公告）號 CN211311573U 公開（公告）日 2020-08-21
申請公布號 CN211311573U 申請公布日 2020-08-21
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 夏偉;張兵;鄭建軍;張成金;姚仕軍;方添志;趙帥 申請（專利權(quán)）人 天津美泰真空技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津合正知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 天津美泰真空技術(shù)有限公司
地址 301609天津市靜海區(qū)大豐堆鎮(zhèn)靳莊子村南200米
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型創(chuàng)造提供了一種磁控濺射裝置，包括設(shè)置在真空腔室內(nèi)的靶材和基板；靶材由驅(qū)動單元驅(qū)動，以實(shí)現(xiàn)圓周方向的轉(zhuǎn)動和長度方向的來回移動；驅(qū)動單元與靶材間通過過渡軸連接，在過渡軸上設(shè)有設(shè)有感應(yīng)區(qū)，在真空室內(nèi)壁上對應(yīng)感應(yīng)器設(shè)有接近開關(guān)，當(dāng)靶材來回移動到達(dá)感應(yīng)區(qū)的近端測點(diǎn)和遠(yuǎn)端測點(diǎn)處，接近開關(guān)分別反饋給驅(qū)動單元換向信號；近端測點(diǎn)處設(shè)有近端凸起環(huán)，在遠(yuǎn)端測點(diǎn)處設(shè)有遠(yuǎn)端凸起環(huán)；所述近端凸起環(huán)處于過渡軸上靠近靶材的一端。本實(shí)用新型創(chuàng)造結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計(jì)合理，通過驅(qū)動單元可以對靶材進(jìn)行圓周方向的轉(zhuǎn)動和長度方向的來回移動，能夠最大限度的充分利用靶材原料，節(jié)能環(huán)保，對降低生產(chǎn)成本有良好效果。??