一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520848334.4 申請日 -
公開（公告）號 CN205115597U 公開（公告）日 2016-03-30
申請公布號 CN205115597U 申請公布日 2016-03-30
分類號 C23C16/513(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 柯文祥 申請（專利權(quán)）人 東莞市中創(chuàng)塑膠制品有限公司
代理機構(gòu) 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 東莞市中創(chuàng)塑膠制品有限公司
地址 523725 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)沙湖新苑南路20號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種連續(xù)式等離子真空鍍膜裝置，包括鍍膜室和真空管道，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有輸送帶，在鍍膜室頂面上沿輸送帶運動方向設(shè)置有若干離子罩，在輸送帶下方設(shè)有若干電弧濺射源，所述鍍膜室兩側(cè)分別設(shè)有第一隔離腔和第二隔離腔，在第一隔離腔與鍍膜室連接處和第二隔離腔與鍍膜室連接處分別設(shè)置有第一真空隔離閥和第二真空隔離閥，在第一隔離腔上方設(shè)有第一抽氣口，在第一隔離腔上相對第一真空隔離閥一側(cè)設(shè)有第一隔離腔門，在第二隔離腔上方設(shè)有第二抽氣口，本裝置通過將第一隔離腔、鍍膜室和第二隔離腔依次連接并形成三個獨立的真空腔體，保證在進行電離子鍍膜時鍍膜室內(nèi)的密封性及真空程度。