全合成高光切削液及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710187625.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN107011979A | 公開(kāi)(公告)日 | 2017-08-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN107011979A | 申請(qǐng)公布日 | 2017-08-04 |
分類(lèi)號(hào) | C10M173/02(2006.01)I;C10N40/22(2006.01)N;C10N40/24(2006.01)N;C10N30/12(2006.01)N;C10N30/06(2006.01)N;C10N30/04(2006.01)N;C10N30/16(2006.01)N | 分類(lèi) | 石油、煤氣及煉焦工業(yè);含一氧化碳的工業(yè)氣體;燃料;潤(rùn)滑劑;泥煤; |
發(fā)明人 | 張茂琳 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 北京華懋偉業(yè)精密電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州市南鋒專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 羅曉聰 |
地址 | 101399 北京市順義區(qū)高麗營(yíng)鎮(zhèn)金馬工業(yè)園達(dá)盛路5號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種全合成高光切削液及其制備方法,本發(fā)明全合成高光切削液的配方成分按重量比為:硼酸酯15?20%;苯丙三唑1?1.5%;異丙醇2?4%;三乙醇胺4?5%;甘油4?5%;季銨鹽沉降劑0.1?1%;IPBC?1?2%;消泡劑0.1?0.8%;水65?70%。全合成高光切削液的制備方法包括以下步驟:a、將硼酸酯18%、苯丙三唑1.5%、三乙醇胺4%依次加入反應(yīng)釜,并將反應(yīng)釜升溫到90攝氏度,該反應(yīng)釜的轉(zhuǎn)速1000rpm,并攪拌15分鐘;b、停止加溫,并待反應(yīng)釜冷卻到常溫,再依次加入異丙醇3%、甘油5%,并攪拌20分鐘,并在攪拌的同時(shí)加入65.5%的水;c、最后加入季銨鹽沉降劑0.5%、IPBC2%、消泡劑0.5%,混合均勻無(wú)沉淀即可。 |
