具有濃度自調(diào)節(jié)功能的濕法清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023069353.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213988838U 公開（公告）日 2021-08-17
申請公布號 CN213988838U 申請公布日 2021-08-17
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳鎬碩;樸靈緒 申請（專利權(quán)）人 蘇州恩騰半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215024江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)02棟703室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種具有濃度自調(diào)節(jié)功能的濕法清洗設(shè)備，包括：清洗槽、補給管路、濃度監(jiān)測裝置及控制裝置；清洗槽用于承載清洗液及待清洗件；補給管路一端與清洗槽相連通，另一端與補給源相連接，補給管路上設(shè)置有電動閥；濃度監(jiān)測裝置位于清洗槽內(nèi)；控制裝置與濃度監(jiān)測裝置及電動閥相連接，以基于濃度監(jiān)測裝置的監(jiān)測結(jié)果控制電動閥的通斷，由此向清洗槽內(nèi)補充所需的化學(xué)液，以將清洗槽內(nèi)的清洗液濃度維持在預(yù)設(shè)值。本實用新型對清洗槽的清洗液濃度進行實時監(jiān)測，以將清洗液的濃度維持在預(yù)設(shè)值，有助于確保清洗質(zhì)量，提高批次內(nèi)及批次間的晶圓清洗質(zhì)量的均勻性；通過有效延長清洗液的清洗壽命，可以有效降低清洗成本，減少清洗液的排放。