批次型濕法刻蝕設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120138106.3 申請日 -
公開（公告）號 CN213988841U 公開（公告）日 2021-08-17
申請公布號 CN213988841U 申請公布日 2021-08-17
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳鎬碩;樸靈緒 申請（專利權(quán)）人 蘇州恩騰半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215024江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)02棟703室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種批次型濕法刻蝕設(shè)備，包括槽體、供液管路、惰性氣體管路、支架及軸承；供液管路一端與刻蝕液源相連通，另一端與槽體相連通；惰性氣體管路位于槽體內(nèi)且位于槽體下部，與惰性氣體源相連通，惰性氣體管路上設(shè)置有進(jìn)氣孔，以向刻蝕液內(nèi)供應(yīng)惰性氣體，使刻蝕液向上鼓泡；支架位于槽體外，軸承固定于支架上，且惰性氣體管路與軸承相連接；當(dāng)驅(qū)動軸承旋轉(zhuǎn)時，軸承帶動惰性氣體管路移動以改變惰性氣體管路的位置。本實(shí)用新型在無需設(shè)備停機(jī)的情況下，工作人員無需進(jìn)入槽體內(nèi)，在槽體外部即可對槽體內(nèi)的惰性氣體管路的位置進(jìn)行調(diào)整，以通過改善惰性氣體的分布調(diào)整刻蝕液分布，提高刻蝕均勻性及設(shè)備產(chǎn)出率以及提高職業(yè)環(huán)境安全性。